超高真空磁濺鍍系統

Chinese, Traditional (繁體中文)
儀器廠牌 
U L V A C
購置日期 
96年
放置位置 
人科二館DS221
所屬實驗室 
台灣自旋科技研究中心 （含光資訊儲存與磁性薄膜實驗室及腦功能激發實驗室）
功能說明 

具備三套濺鍍腔體，分別為1預備 2氧化鎂 3金屬，藉由加熱系統退火使非晶態再結晶化，且利用超真空度腔體，可降低腔體中沉積時的大量雜質汙染物，提高薄膜的品質。