六靶式磁控濺鍍系統

六靶式磁控濺鍍系統
Chinese, Traditional (繁體中文)
儀器廠牌 Equipment Brand 
自組
購置日期 Purchase Date 
97年
放置位置 Location 
人科二館DS221
所屬實驗室 Associated Lab 
台灣自旋科技研究中心
功能說明 Function Description 

此濺鍍系統為本中心第一套高真空磁控濺鍍系統，主要製作磁性記憶體之pMJT結構。腔體中可放置六種靶材。