六靶式磁控濺鍍系統

Chinese, Traditional (繁體中文)
儀器廠牌 
自組
購置日期 
97年
放置位置 
人科二館DS221
所屬實驗室 
台灣自旋科技研究中心 （含光資訊儲存與磁性薄膜實驗室及腦功能激發實驗室）
功能說明 

此濺鍍系統為本中心第一套高真空磁控濺鍍系統，主要製作磁性記憶體之pMJT結構。腔體中可放置六種靶材。